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目前市場上的平板顯示器、LED加工、印制電路板、微機電領域、金剛石臺面上制備金屬薄膜電極、各種光柵、光子晶體等微納光學元件、生物芯片、光刻制造微針都是屬于光刻膠領域的一部分，在產品加工的過程中產生的大量污水應該要用什么設備進行處理呢?
光刻膠指的是通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，膠體的溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。
這些電子設備采用的原材料主要有樹脂溶液、光敏劑、溶劑等，光刻膠廢水的主要來源為對原材料的純化產生的廢水、生產過程中產生的廢液、清洗設備產生的廢水。
光刻膠的污水屬于硅膠污水中的一種，因此是可以采用電子污水處理設備就進行污水處理，其污水處理的方法可以用：
1、物理法：物理法中的格柵主要是用以截阻大塊的呈懸浮或漂浮狀態(tài)的固體污染物，而且還可以將原有的膠狀材料收集起來進行回收利用，從而提高材料的利用率，降低成本。
2、混凝沉淀法：往污水中加入混凝劑，混凝劑可以使水中的懸浮物以及中膠體物質等聚集成大顆粒絮體，在下落的過程中可以加速其沉淀的速度，最后達到固液分離的目的。
3、生物法：生物法可以達到去除部分的COD，從而提高B/C，主要是采用采用厭氧+好氧生物處理法的方式。
對于光刻膠工業(yè)的污水主要的污染物有樹脂合成物、生物難以降解物質、有機物、石油類等，因此是不能直接排放于大自然中，但是不同的工業(yè)用的原材料是不一樣的，因為采用的水處理工藝也是不同的。
